説明
KrF Scanner構成
構成なしOEMモデルの説明
The CANON FPA 5000 ES4 scanner is geared for both 200mm and 300mm wafer fabs. This lithography system is suitable for applications at the 100-nm (0.10-micron) and below. The FPA 5000-ES4 has high-throughput rates of 110 wafers per hour (wph) on 300mm and 160wph on 200mm. The s an expansion of Canon's high NA, 248-nm tools for mix-and-match applicationsドキュメント
ドキュメントなし
検証済み
カテゴリ
Steppers & Scanners
最終検証： 6日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
142526
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
CANON
FPA-5000ES4
カテゴリ
Steppers & Scanners
最終検証： 6日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
142526
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
KrF Scanner構成
構成なしOEMモデルの説明
The CANON FPA 5000 ES4 scanner is geared for both 200mm and 300mm wafer fabs. This lithography system is suitable for applications at the 100-nm (0.10-micron) and below. The FPA 5000-ES4 has high-throughput rates of 110 wafers per hour (wph) on 300mm and 160wph on 200mm. The s an expansion of Canon's high NA, 248-nm tools for mix-and-match applicationsドキュメント
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