説明
5x Reduction Stepper構成
* The GCA AutoStep 200 Stepper is an I-line 5x reduction stepper with repeat exposure capabilities. It is capable of submicron resolution and high accuracy alignment. * 21 mm dia exposure field (up to 14.8 X 14.8 mm square) * Can achieve resolution < 600 nm * 200 mm wafer stage * Stage precision < 100 nm * Accommodates wafer sizes from 1 cm pieces to 6” wafers * Automatic reticle transfer alignment through RMS (reticle management system) * Exposure wavelength of 365 nmOEMモデルの説明
提供なしドキュメント
ドキュメントなし
検証済み
カテゴリ
Steppers & Scanners
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
131961
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
GCA
AutoStep 200
カテゴリ
Steppers & Scanners
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
131961
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
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Available
説明
5x Reduction Stepper構成
* The GCA AutoStep 200 Stepper is an I-line 5x reduction stepper with repeat exposure capabilities. It is capable of submicron resolution and high accuracy alignment. * 21 mm dia exposure field (up to 14.8 X 14.8 mm square) * Can achieve resolution < 600 nm * 200 mm wafer stage * Stage precision < 100 nm * Accommodates wafer sizes from 1 cm pieces to 6” wafers * Automatic reticle transfer alignment through RMS (reticle management system) * Exposure wavelength of 365 nmOEMモデルの説明
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