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memsstar Orbis 3000
    説明
    Purpose: Vapor MEMS Release -Use for silicon sacrificial layer removal (Etching) -Single wafer process in vacuum chamber -Process Temperature can be 5oC to >100oC
    構成
    Chemicals: HF Process type: Single wafer Pumping system: -Ebara AA200WN*2 -Ebara AA40WN*2 (1 for service and 1 for spare) Local Scrubber: Kanken Techno KW300
    OEMモデルの説明
    提供なし
    ドキュメント

    ドキュメントなし

    memsstar

    Orbis 3000

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    検証済み

    カテゴリ
    Wafer Handling

    最終検証： 2日前

    主なアイテムの詳細
    状態：

    New

    稼働ステータス:

    不明

    製品ID：

    147939

    ウェーハサイズ：

    不明

    ヴィンテージ：

    2021

    Logistics Support
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
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    memsstar Orbis 3000

    memsstar

    Orbis 3000

    Wafer Handling
    ヴィンテージ： 2021状態： 新規
    最終確認2日前

    memsstar

    Orbis 3000

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    検証済み
    カテゴリ
    Wafer Handling
    最終検証： 2日前
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    主なアイテムの詳細
    状態：

    New

    稼働ステータス:

    不明

    製品ID：

    147939

    ウェーハサイズ：

    不明

    ヴィンテージ：

    2021

    Logistics Support
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
    説明
    Purpose: Vapor MEMS Release -Use for silicon sacrificial layer removal (Etching) -Single wafer process in vacuum chamber -Process Temperature can be 5oC to >100oC
    構成
    Chemicals: HF Process type: Single wafer Pumping system: -Ebara AA200WN*2 -Ebara AA40WN*2 (1 for service and 1 for spare) Local Scrubber: Kanken Techno KW300
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