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SSEC 3302
    説明
    説明なし
    構成
    Two modules: -First module, the wafer is soaked in the mix of solvents (cleaning by submersion). -Second module, there is processing by spray solvents (Fan Spray Processing) and nitrogen drying stage. As solvents N- methylpyrrolidone (NMP) and isopropyl alcohol (IPA) were used. The unit has dry-in/dry-out system (dry wafers in/ dry wafers out)
    OEMモデルの説明
    提供なし
    ドキュメント

    ドキュメントなし

    SSEC

    3302

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    検証済み

    カテゴリ
    Wafer Scrubber

    最終検証： 30日以上前

    主なアイテムの詳細
    状態：

    Used

    稼働ステータス:

    不明

    製品ID：

    24600

    ウェーハサイズ：

    不明

    ヴィンテージ：

    不明

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    Logistics Support
    Available
    Money Back Guarantee
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
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    SSEC 3302

    SSEC

    3302

    Wafer Scrubber
    ヴィンテージ： 2015状態： 中古
    最終確認60日以上前
    SSEC 3302

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    Wafer Scrubber
    ヴィンテージ： 0状態： 中古
    最終確認5日前
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    Wafer Scrubber
    ヴィンテージ： 0状態： 中古
    最終確認30日以上前

    SSEC

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    検証済み
    カテゴリ
    Wafer Scrubber
    最終検証： 30日以上前
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    主なアイテムの詳細
    状態：

    Used

    稼働ステータス:

    不明

    製品ID：

    24600

    ウェーハサイズ：

    不明

    ヴィンテージ：

    不明

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    Two modules: -First module, the wafer is soaked in the mix of solvents (cleaning by submersion). -Second module, there is processing by spray solvents (Fan Spray Processing) and nitrogen drying stage. As solvents N- methylpyrrolidone (NMP) and isopropyl alcohol (IPA) were used. The unit has dry-in/dry-out system (dry wafers in/ dry wafers out)
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    Wafer Scrubberヴィンテージ： 2015状態： 中古最終検証： 60日以上前
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    Wafer Scrubberヴィンテージ： 0状態： 中古最終検証： 30日以上前