説明
surface brush/spray, (Spray)構成
4,8OEMモデルの説明
Wafer size (mm): 300 Throughput (wph): 320 Process: DIW scrubber Substrates: Si, Glass Dry method: Spin, N2 blower Nozzle type: AS2, Brushドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Wafer Scrubber
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
97950
ウェーハサイズ：
4"/100mm, 8"/200mm
ヴィンテージ：
不明
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
TEL / TOKYO ELECTRON
NS300+
カテゴリ
Wafer Scrubber
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
97950
ウェーハサイズ：
4"/100mm, 8"/200mm
ヴィンテージ：
不明
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surface brush/spray, (Spray)構成
4,8OEMモデルの説明
Wafer size (mm): 300 Throughput (wph): 320 Process: DIW scrubber Substrates: Si, Glass Dry method: Spin, N2 blower Nozzle type: AS2, Brushドキュメント
ドキュメントなし