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LAM RESEARCH / NOVELLUS / GASONICS GAMMA 2100
    説明
    説明なし
    構成
    構成なし
    OEMモデルの説明
    The GAMMA 2100 200mm photoresist removal system uses a plasma source to strip photoresist. The GAMMA architecture features a multi-station sequential processing design with six strip stations, resulting in high wafer throughput with a minimal number of critical subsystems.
    ドキュメント

    ドキュメントなし

    カテゴリ
    Ashers / Plasma Cleaner

    最終検証: 60日以上前

    主なアイテムの詳細

    状態:

    Used


    稼働ステータス:

    不明


    製品ID:

    111128


    ウェーハサイズ:

    不明


    ヴィンテージ:

    不明


    Have Additional Questions?
    Logistics Support
    Available
    Money Back Guarantee
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available

    LAM RESEARCH / NOVELLUS / GASONICS

    GAMMA 2100

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    検証済み
    カテゴリ
    Ashers / Plasma Cleaner
    最終検証: 60日以上前
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    主なアイテムの詳細

    状態:

    Used


    稼働ステータス:

    不明


    製品ID:

    111128


    ウェーハサイズ:

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    ヴィンテージ:

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    構成
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    OEMモデルの説明
    The GAMMA 2100 200mm photoresist removal system uses a plasma source to strip photoresist. The GAMMA architecture features a multi-station sequential processing design with six strip stations, resulting in high wafer throughput with a minimal number of critical subsystems.
    ドキュメント

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