説明
説明なし構成
3 Chambers SIO2 PECVDOEMモデルの説明
The Applied Materials Precision 5000 CVD is a single system solution for depositing high-quality, low-temperature dielectric materials on semiconductor devices. It incorporates multi-step processes to provide enabling technology for void-free intermetal dielectric deposition with profile control. The system’s process flexibility over a wide range of applications reduces the number and types of machines required for CVD. This makes it an efficient and cost-effective solution for semiconductor manufacturing.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
CVD
最終検証： 5日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
147129
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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APPLIED MATERIALS (AMAT)
P5000 CVD
カテゴリ
CVD
最終検証： 5日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
147129
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
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3 Chambers SIO2 PECVDOEMモデルの説明
The Applied Materials Precision 5000 CVD is a single system solution for depositing high-quality, low-temperature dielectric materials on semiconductor devices. It incorporates multi-step processes to provide enabling technology for void-free intermetal dielectric deposition with profile control. The system’s process flexibility over a wide range of applications reduces the number and types of machines required for CVD. This makes it an efficient and cost-effective solution for semiconductor manufacturing.ドキュメント
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