説明
説明なし構成
WJ-999 CVDOEMモデルの説明
The WJ-999 is a product from Watkins Johnson. It is an Atmospheric Pressure CVD with 3 process chambers for TEOS and hydride processes. It is used for depositing doped or undoped silicon dioxide (SiO2) films, created from either the TEOS/Ozone or Silane/Oxygen CVD reaction.ドキュメント
ドキュメントなし
AVIZA / WATKINS-JOHNSON
WJ-999
検証済み
カテゴリ
CVD
最終検証： 11日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
Deinstalled / Uncrated
製品ID：
102980
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
AVIZA / WATKINS-JOHNSON
WJ-999
カテゴリ
CVD
最終検証： 11日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
Deinstalled / Uncrated
製品ID：
102980
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
説明なし構成
WJ-999 CVDOEMモデルの説明
The WJ-999 is a product from Watkins Johnson. It is an Atmospheric Pressure CVD with 3 process chambers for TEOS and hydride processes. It is used for depositing doped or undoped silicon dioxide (SiO2) films, created from either the TEOS/Ozone or Silane/Oxygen CVD reaction.ドキュメント
ドキュメントなし