説明
説明なし構成
構成なしOEMモデルの説明
The SpectraFx 200 is a thin-film measurement system that uses spectroscopic ellipsometry technology to non-destructively measure process variation on product wafers. It is optimized for 300mm fab-to-fab and tool-to-tool matching and provides enhanced performance on ultra-thin gate oxides, multi-stack, and 193-nm anti-reflective coating layers. It also has a 2D film stress option that measures the entire wafer to generate a 2D wafer map.ドキュメント
ドキュメントなし
検証済み
カテゴリ
Defect Inspection
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
127002
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
2007
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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KLA
SPECTRAFX 200
カテゴリ
Defect Inspection
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
127002
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
2007
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
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構成なしOEMモデルの説明
The SpectraFx 200 is a thin-film measurement system that uses spectroscopic ellipsometry technology to non-destructively measure process variation on product wafers. It is optimized for 300mm fab-to-fab and tool-to-tool matching and provides enhanced performance on ultra-thin gate oxides, multi-stack, and 193-nm anti-reflective coating layers. It also has a 2D film stress option that measures the entire wafer to generate a 2D wafer map.ドキュメント
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