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LAM RESEARCH / NOVELLUS INOVA
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    The INOVA system, which is in the final stages of its development, is an advanced PVD system that delivers Maxfill aluminum and superior Ti/Ti-nitride film quality with excellent particle performance. Maxfill is an innovative, low-pressure, low-k compatible process for aluminum via fill. The Ti/TiN process is in production with Controlled Divergence Technology (CDS). The INOVA is a multi-chamber single wafer processing system. INOVA(TM) Tantalum films are designed to enable barriers for copper metallization.
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    LAM RESEARCH / NOVELLUS

    INOVA

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    検証済み

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    Deposition

    最終検証: 60日以上前

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    状態:

    Used


    稼働ステータス:

    不明


    製品ID:

    98733


    ウェーハサイズ:

    12"/300mm


    ヴィンテージ:

    不明

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    ヴィンテージ: 2012状態: 中古
    最終確認60日以上前

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    The INOVA system, which is in the final stages of its development, is an advanced PVD system that delivers Maxfill aluminum and superior Ti/Ti-nitride film quality with excellent particle performance. Maxfill is an innovative, low-pressure, low-k compatible process for aluminum via fill. The Ti/TiN process is in production with Controlled Divergence Technology (CDS). The INOVA is a multi-chamber single wafer processing system. INOVA(TM) Tantalum films are designed to enable barriers for copper metallization.
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    Depositionヴィンテージ: 2012状態: 中古最終検証: 60日以上前
    LAM RESEARCH / NOVELLUS INOVA

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    Depositionヴィンテージ: 1999状態: 中古最終検証: 60日以上前
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