説明
説明なし構成
Components: 1 x Orienter 1 x MxP Poly 2 x MxP+ Poly 1 x eMxP+ Software Version: 4.9_15 ESC Type: Polymide Endpoint: Monochromator Gases Used: NF3 CH3F CL2 HBr CHF3 Ar CF4 O2 N2 C4F8 CO Mass Flow Controllers (MFCs): 32 Digital MFCs (14-Unit or 18-Horiba) Robot: HP Robot Dry Pumps: 4 x IQDP80 2 x IQDP80/WSU151 Chillers: 5 x Neslab 150 unitsOEMモデルの説明
The AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 is an Etchers & Ashers system. The centura 5200 can be used with 8” wafer size and oxidation etchers size is also 8”. The Centura architecture clusters four processing stations and two auxiliary chambers around a central transfer module containing an ultra-reliable magnetically-coupled vacuum robot.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 今日
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
147163
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
1998
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA 5200
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 今日
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
147163
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
1998
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
説明なし構成
Components: 1 x Orienter 1 x MxP Poly 2 x MxP+ Poly 1 x eMxP+ Software Version: 4.9_15 ESC Type: Polymide Endpoint: Monochromator Gases Used: NF3 CH3F CL2 HBr CHF3 Ar CF4 O2 N2 C4F8 CO Mass Flow Controllers (MFCs): 32 Digital MFCs (14-Unit or 18-Horiba) Robot: HP Robot Dry Pumps: 4 x IQDP80 2 x IQDP80/WSU151 Chillers: 5 x Neslab 150 unitsOEMモデルの説明
The AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 is an Etchers & Ashers system. The centura 5200 can be used with 8” wafer size and oxidation etchers size is also 8”. The Centura architecture clusters four processing stations and two auxiliary chambers around a central transfer module containing an ultra-reliable magnetically-coupled vacuum robot.ドキュメント
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