説明
説明なし構成
WAFER ETCHINGOEMモデルの説明
For etching advanced conducting films, Applied launched DPS systems in fiscal 2001, the Metal Etch DPS™ II and Silicon Etch DPS™ II Centura systems, offering customers the technology, productivity and reliability required for 100nm and below processing.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
129869
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA METAL DPS II
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
129869
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
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WAFER ETCHINGOEMモデルの説明
For etching advanced conducting films, Applied launched DPS systems in fiscal 2001, the Metal Etch DPS™ II and Silicon Etch DPS™ II Centura systems, offering customers the technology, productivity and reliability required for 100nm and below processing.ドキュメント
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