説明
説明なし構成
DRY ETCHEROEMモデルの説明
For etching advanced conducting films, Applied launched DPS systems in fiscal 2001, the Metal Etch DPS™ II and Silicon Etch DPS™ II Centura systems, offering customers the technology, productivity and reliability required for 100nm and below processing.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 4日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
140493
ウェーハサイズ：
6"/150mm
ヴィンテージ：
2001
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA METAL DPS II
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 4日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
140493
ウェーハサイズ：
6"/150mm
ヴィンテージ：
2001
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
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DRY ETCHEROEMモデルの説明
For etching advanced conducting films, Applied launched DPS systems in fiscal 2001, the Metal Etch DPS™ II and Silicon Etch DPS™ II Centura systems, offering customers the technology, productivity and reliability required for 100nm and below processing.ドキュメント
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