説明
Dry etch system構成
Metal etchOEMモデルの説明
For etching metals, the Applied Opus AdvantEdge Metal Etch uses an optimized 5-chamber platform configuration that enables customers to extend aluminum interconnect technology and productivity to sub-70nm dimensions for flash and DRAM memory applications.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 2日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
154283
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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APPLIED MATERIALS (AMAT)
OPUS ADVANTEDGE METAL ETCH
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 2日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
154283
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
Dry etch system構成
Metal etchOEMモデルの説明
For etching metals, the Applied Opus AdvantEdge Metal Etch uses an optimized 5-chamber platform configuration that enables customers to extend aluminum interconnect technology and productivity to sub-70nm dimensions for flash and DRAM memory applications.ドキュメント
ドキュメントなし