説明
説明なし構成
200mm max size (etch area is 100mm via quartz clamp) Physical etch assist via Ar Chemical etch via F or Cl Modification of etching environment toward reducing (H2) or oxidizing (O2) Cryo stage for deep RIE etching (Bosch)OEMモデルの説明
Etching Systemドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 13日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
138636
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
2012
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
OXFORD
100 180 ICP
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Dry / Plasma Etch
最終検証： 13日前
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Used
稼働ステータス:
不明
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138636
ウェーハサイズ：
不明
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2012
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200mm max size (etch area is 100mm via quartz clamp) Physical etch assist via Ar Chemical etch via F or Cl Modification of etching environment toward reducing (H2) or oxidizing (O2) Cryo stage for deep RIE etching (Bosch)OEMモデルの説明
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