説明
TEL EPION INC., ULTRATRIMMER 30 Etching System構成
構成なしOEMモデルの説明
Gas Cluster Ion Beam system TEL’s UltraTrimmer series provides precise control of film thickness by reducing surface roughness. Cutting edge technology enables industry leading performance: sub-nanometer thickness control, a wide range of dynamic correction and high-throughput processing. UltraTrimmer series realizes a variety of custom process profiles for silicon or compound substrate and contributes to yield improvement and performance enhancement.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
116019
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
TEL / TOKYO ELECTRON
UltraTrimmer 30
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
116019
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
TEL EPION INC., ULTRATRIMMER 30 Etching System構成
構成なしOEMモデルの説明
Gas Cluster Ion Beam system TEL’s UltraTrimmer series provides precise control of film thickness by reducing surface roughness. Cutting edge technology enables industry leading performance: sub-nanometer thickness control, a wide range of dynamic correction and high-throughput processing. UltraTrimmer series realizes a variety of custom process profiles for silicon or compound substrate and contributes to yield improvement and performance enhancement.ドキュメント
ドキュメントなし