説明
説明なし構成
構成なしOEMモデルの説明
The GAMMA 2100 200mm photoresist removal system uses a plasma source to strip photoresist. The GAMMA architecture features a multi-station sequential processing design with six strip stations, resulting in high wafer throughput with a minimal number of critical subsystems.ドキュメント
ドキュメントなし
LAM RESEARCH / NOVELLUS / GASONICS
GAMMA 2100
検証済み
カテゴリ
Etch/Asher
最終検証： 4日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
74426
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
LAM RESEARCH / NOVELLUS / GASONICS
GAMMA 2100
カテゴリ
Etch/Asher
最終検証： 4日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
74426
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
説明なし構成
構成なしOEMモデルの説明
The GAMMA 2100 200mm photoresist removal system uses a plasma source to strip photoresist. The GAMMA architecture features a multi-station sequential processing design with six strip stations, resulting in high wafer throughput with a minimal number of critical subsystems.ドキュメント
ドキュメントなし