説明
説明なし構成
4 Tubes (2 Atmospheric / 2 LPCVD) Tube 1 - (Atm) Diffusion growth of SiO2 films utilizing either ‘Thermal’ or ‘Wet’ oxidation (up to 1100C) Tube 2 - (Atm) Forming gas anneal (up to 800C) Tube 3 - LPCVD SiO2 deposition at lower temperatures (up to 800C) Tube 4 - LPCVD Si3N4 (up to 800C)OEMモデルの説明
Furnanceドキュメント
ドキュメントなし
EXPERTECH
HTR
検証済み
カテゴリ
Furnaces / Diffusion
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
103682
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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