
説明
Pump 3 Ion implant構成
CDA/N2/Ar/ASH3/BF3OEMモデルの説明
The Varian E1000 is a high current implanter that leverages Varian’s pioneering single-wafer high current technology to deliver high yields and the industry’s best productivity. Innovations on the dual-magnet ribbon beam architecture improve beam line transmission, on-wafer beam utilization, and beam current output.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
High Current
最終検証: 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態:
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID:
133716
ウェーハサイズ:
6"/150mm
ヴィンテージ:
1996
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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すべて表示APPLIED MATERIALS (AMAT) / VARIAN
E1000
カテゴリ
High Current
最終検証: 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態:
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID:
133716
ウェーハサイズ:
6"/150mm
ヴィンテージ:
1996
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
Pump 3 Ion implant構成
CDA/N2/Ar/ASH3/BF3OEMモデルの説明
The Varian E1000 is a high current implanter that leverages Varian’s pioneering single-wafer high current technology to deliver high yields and the industry’s best productivity. Innovations on the dual-magnet ribbon beam architecture improve beam line transmission, on-wafer beam utilization, and beam current output.ドキュメント
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