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説明なし構成
構成なしOEMモデルの説明
The GAMMA 2100 200mm photoresist removal system uses a plasma source to strip photoresist. The GAMMA architecture features a multi-station sequential processing design with six strip stations, resulting in high wafer throughput with a minimal number of critical subsystems.ドキュメント
ドキュメントなし
LAM RESEARCH / NOVELLUS / GASONICS
GAMMA 2100
検証済み
カテゴリ
ICP
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
74426
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
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LAM RESEARCH / NOVELLUS / GASONICS
GAMMA 2100
検証済み
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ICP
最終検証： 14日前
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不明
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74426
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The GAMMA 2100 200mm photoresist removal system uses a plasma source to strip photoresist. The GAMMA architecture features a multi-station sequential processing design with six strip stations, resulting in high wafer throughput with a minimal number of critical subsystems.ドキュメント
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