説明
ASHER構成
ASHEROEMモデルの説明
The GAMMA 2100 200mm photoresist removal system uses a plasma source to strip photoresist. The GAMMA architecture features a multi-station sequential processing design with six strip stations, resulting in high wafer throughput with a minimal number of critical subsystems.ドキュメント
ドキュメントなし
LAM RESEARCH / NOVELLUS / GASONICS
GAMMA 2100
検証済み
カテゴリ
ICP
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
48869
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
2002
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
LAM RESEARCH / NOVELLUS / GASONICS
GAMMA 2100
検証済み
カテゴリ
ICP
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
48869
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
2002
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説明
ASHER構成
ASHEROEMモデルの説明
The GAMMA 2100 200mm photoresist removal system uses a plasma source to strip photoresist. The GAMMA architecture features a multi-station sequential processing design with six strip stations, resulting in high wafer throughput with a minimal number of critical subsystems.ドキュメント
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