説明
説明なし構成
構成なしOEMモデルの説明
Introducing the JBX-6300FS, a cutting-edge electron beam lithography system. It effortlessly writes patterns down to 8nm (actual result: 5nm) using an electron optical system with a 2.1nm-diameter electron beam at 100kV. Achieving high field-stitching and overlay accuracy of 9nm or less, it ensures exceptional cost performance. JEOL's unique automatic correction function allows high-precision pattern writing. Addressing various needs, from cutting-edge device R&D to nanotechnology and communication-device production, JBX-6300FS sets a new standard in electron beam lithography.ドキュメント
ドキュメントなし
検証済み
カテゴリ
Lithography
最終検証： 3日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
142272
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
JEOL
JBX-6300FS
カテゴリ
Lithography
最終検証： 3日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
142272
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
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Introducing the JBX-6300FS, a cutting-edge electron beam lithography system. It effortlessly writes patterns down to 8nm (actual result: 5nm) using an electron optical system with a 2.1nm-diameter electron beam at 100kV. Achieving high field-stitching and overlay accuracy of 9nm or less, it ensures exceptional cost performance. JEOL's unique automatic correction function allows high-precision pattern writing. Addressing various needs, from cutting-edge device R&D to nanotechnology and communication-device production, JBX-6300FS sets a new standard in electron beam lithography.ドキュメント
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