説明
Thin Wafer handling Hydrogen Implanter Exterior Dimensions Width 127.559 in (324.0 cm) Depth 197.244 in (501.0 cm) Height 96.063 in (244.0 cm)構成
構成なしOEMモデルの説明
The VARIAN E500 is a medium current ion implanter system designed for use with 150mm wafer sizes. This system is capable of delivering precise and accurate implantation of ions into semiconductor wafers, making it an essential tool in the manufacturing of semiconductor devices.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Medium Current
最終検証： 4日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
147416
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
2013
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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APPLIED MATERIALS (AMAT) / VARIAN
E500
カテゴリ
Medium Current
最終検証： 4日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
147416
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
2013
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
Thin Wafer handling Hydrogen Implanter Exterior Dimensions Width 127.559 in (324.0 cm) Depth 197.244 in (501.0 cm) Height 96.063 in (244.0 cm)構成
構成なしOEMモデルの説明
The VARIAN E500 is a medium current ion implanter system designed for use with 150mm wafer sizes. This system is capable of delivering precise and accurate implantation of ions into semiconductor wafers, making it an essential tool in the manufacturing of semiconductor devices.ドキュメント
ドキュメントなし