説明
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構成なしOEMモデルの説明
The VIISion 80 ion implanter beam line incorporates a number of significant features to enhance the generation and transport of ion beams with high efficiencies and minimal heavy metals and particle production. These include a dual filament ion source, a constant current extraction system with variable z axis and suppression voltage, a very high resolving power high acceptance mass analysis system, a rotating mass defining slit, a variable gap acceleration system and a full faraday in front of the wafer.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Medium Current
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
127167
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
1996
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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APPLIED MATERIALS (AMAT) / VARIAN
VIISion 80
カテゴリ
Medium Current
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
127167
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
1996
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
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構成なしOEMモデルの説明
The VIISion 80 ion implanter beam line incorporates a number of significant features to enhance the generation and transport of ion beams with high efficiencies and minimal heavy metals and particle production. These include a dual filament ion source, a constant current extraction system with variable z axis and suppression voltage, a very high resolving power high acceptance mass analysis system, a rotating mass defining slit, a variable gap acceleration system and a full faraday in front of the wafer.ドキュメント
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