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PLASMATHERM LAPECVD
    説明
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    構成
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    OEMモデルの説明
    Plasma-Therm’s LAPECVD™ (Large Area Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) uses a cassette-to-cassette configuration to allow for high-volume production in a wide range of applications. The LAPECVD™ platform can be used to deposit a variety of thin-film materials with its parallel-plate plasma deposition system. Hardware: -Cassette-to-Cassette Handling: - Multi-substrate batch processing -Dual cassettes -Platen heating up to 350°C -Upper electrode RF power at 13.56 MHz with optional MFD -Up to 8 gas channels with digital MFCs -Thermally managed reactor design—up to 175°C for internal walls and shower head
    ドキュメント

    ドキュメントなし

    PLASMATHERM

    LAPECVD

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    検証済み

    カテゴリ
    PECVD

    最終検証: 8日前

    主なアイテムの詳細

    状態:

    Used


    稼働ステータス:

    不明


    製品ID:

    114751


    ウェーハサイズ:

    不明


    ヴィンテージ:

    2006


    Have Additional Questions?
    Logistics Support
    Available
    Money Back Guarantee
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
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    PLASMATHERM LAPECVD

    PLASMATHERM

    LAPECVD

    PECVD
    ヴィンテージ: 2009状態: 中古
    最終確認60日以上前

    PLASMATHERM

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    PECVD
    最終検証: 8日前
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    Plasma-Therm’s LAPECVD™ (Large Area Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) uses a cassette-to-cassette configuration to allow for high-volume production in a wide range of applications. The LAPECVD™ platform can be used to deposit a variety of thin-film materials with its parallel-plate plasma deposition system. Hardware: -Cassette-to-Cassette Handling: - Multi-substrate batch processing -Dual cassettes -Platen heating up to 350°C -Upper electrode RF power at 13.56 MHz with optional MFD -Up to 8 gas channels with digital MFCs -Thermally managed reactor design—up to 175°C for internal walls and shower head
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