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説明
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4 chamber PECVDOEMモデルの説明
VERSALINE PECVD systems can deposit many different high-quality films, ensuring you get maximum, reliable high productivity at a low total cost of ownership. Process Silane-based films (a-Si, SiO2, SiNx, SiON, SiC, SiOF, a-SiC) TEOS films Stress control High and low deposition rates Tunable refractive indexドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
PECVD
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
110100
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
PLASMATHERM
VERSALINE PECVD
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PECVD
最終検証： 60日以上前
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状態：
Used
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不明
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VERSALINE PECVD systems can deposit many different high-quality films, ensuring you get maximum, reliable high productivity at a low total cost of ownership. Process Silane-based films (a-Si, SiO2, SiNx, SiON, SiC, SiOF, a-SiC) TEOS films Stress control High and low deposition rates Tunable refractive indexドキュメント
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