説明
The Clusterline 200 systems offeredis equipped with 5 single process chambers each. They were used only for reactive sputtering of SiO2 layers on 150mm blank Si wafers. Both systems are still in a clean room and in working conditions. Further devices mounted on these tools are: two vacuum loadports each, wafer aligners, buffer stations for upto 5 wafers, OCR back side readers. Handler Type MX800. 5x Pulsed DC chambers with RF on Chuck構成
構成なしOEMモデルの説明
提供なしドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
PVD / Sputtering
最終検証： 30日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
136261
ウェーハサイズ：
6"/150mm
ヴィンテージ：
2000
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
同様のリスト
すべて表示
EVATEC / UNAXIS / OERLIKON / BALZERS
CLUSTERLINE 200
カテゴリ
PVD / Sputtering
最終検証： 30日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
136261
ウェーハサイズ：
6"/150mm
ヴィンテージ：
2000
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
The Clusterline 200 systems offeredis equipped with 5 single process chambers each. They were used only for reactive sputtering of SiO2 layers on 150mm blank Si wafers. Both systems are still in a clean room and in working conditions. Further devices mounted on these tools are: two vacuum loadports each, wafer aligners, buffer stations for upto 5 wafers, OCR back side readers. Handler Type MX800. 5x Pulsed DC chambers with RF on Chuck構成
構成なしOEMモデルの説明
提供なしドキュメント
ドキュメントなし