説明
Sputtering System構成
構成なしOEMモデルの説明
The MRC 603 is a sputter system designed to deposit thin film metals by DC source. It can hold four 6-inch wafers on a pallet for the process. The tool can be used to deposit aluminum (Al), titanium (Ti), and indium-tin-oxide (ITO) for single or multi-stack films like an Al/Tiドキュメント
ドキュメントなし
MRC
603
検証済み
カテゴリ
PVD / Sputtering
最終検証： 30日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
69559
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
MRC
603
カテゴリ
PVD / Sputtering
最終検証： 30日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
69559
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
Sputtering System構成
構成なしOEMモデルの説明
The MRC 603 is a sputter system designed to deposit thin film metals by DC source. It can hold four 6-inch wafers on a pallet for the process. The tool can be used to deposit aluminum (Al), titanium (Ti), and indium-tin-oxide (ITO) for single or multi-stack films like an Al/Tiドキュメント
ドキュメントなし