
説明
説明なし構成
A. Dual beam B. TLD and CDEM Detectors C. Integrated EDS Detector D. ELSTAR UHR Electron column E. Sidewinder Ion column F. Omni probe nanomanipulator G. Plasma cleaner H. Vacuum system I. (3) IGPs J. Water-cooled turbo and dry PVP K. 5-Axis (X, Y, Z, R, Tilt), Compucentric stage, 300 mm piezo L. GIS chemistries: IEE, EE, C, Pt, W, H20, IDEP M. Gas injection system: Maximum (4) Injectors, 1 Included, Pt/W N. Operating system: Windows OSOEMモデルの説明
Helios NanoLab 1200 Full Wafer DualBeam Technology for High Resolution Imaging, Analysis and TEM Sample Preparation for 300 mm Wafersドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
SEM / FIB
最終検証: 3日前
主なアイテムの詳細
状態:
Used
稼働ステータス:
Installed / Running
製品ID:
149104
ウェーハサイズ:
不明
ヴィンテージ:
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
THERMOFISHER SCIENTIFIC / FEI / PHILIPS
HELIOS NANOLAB 1200
カテゴリ
SEM / FIB
最終検証: 3日前
主なアイテムの詳細
状態:
Used
稼働ステータス:
Installed / Running
製品ID:
149104
ウェーハサイズ:
不明
ヴィンテージ:
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
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Available
説明
説明なし構成
A. Dual beam B. TLD and CDEM Detectors C. Integrated EDS Detector D. ELSTAR UHR Electron column E. Sidewinder Ion column F. Omni probe nanomanipulator G. Plasma cleaner H. Vacuum system I. (3) IGPs J. Water-cooled turbo and dry PVP K. 5-Axis (X, Y, Z, R, Tilt), Compucentric stage, 300 mm piezo L. GIS chemistries: IEE, EE, C, Pt, W, H20, IDEP M. Gas injection system: Maximum (4) Injectors, 1 Included, Pt/W N. Operating system: Windows OSOEMモデルの説明
Helios NanoLab 1200 Full Wafer DualBeam Technology for High Resolution Imaging, Analysis and TEM Sample Preparation for 300 mm Wafersドキュメント
ドキュメントなし