説明
説明なし構成
構成なしOEMモデルの説明
The TWINSCAN XT:1060K is ASML’s most advanced KrF (krypton fluoride) laser ‘dry’ lithography system. The TWINSCAN XT:1060K 248 nm step-and-scan system is a dual-stage lithography tool with the highest NA and productivity in the industry, designed for 300 mm wafer production. Extending critical KrF technology reduces our customers' cost per layer while allowing them to benefit from mature KrF processing.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Steppers & Scanners
最終検証： 7日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
137552
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
ASML
TWINSCAN XT:1060K
カテゴリ
Steppers & Scanners
最終検証： 7日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
137552
ウェーハサイズ：
不明
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不明
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構成なしOEMモデルの説明
The TWINSCAN XT:1060K is ASML’s most advanced KrF (krypton fluoride) laser ‘dry’ lithography system. The TWINSCAN XT:1060K 248 nm step-and-scan system is a dual-stage lithography tool with the highest NA and productivity in the industry, designed for 300 mm wafer production. Extending critical KrF technology reduces our customers' cost per layer while allowing them to benefit from mature KrF processing.ドキュメント
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