説明
Asset Description - 193nm Immersion scanner Software Version - 5.1 CIM - secs Process - 40/45nm構成
ASML XT1900Gi TEL Lithius Pro IOEMモデルの説明
The TWINSCAN XT:1900Gi Step-and-Scan system is a high-productivity, dual-stage immersion lithography tool designed for volume 300-mm wafer production at 45-nm resolution and below.ドキュメント
カテゴリ
Steppers & Scanners
最終検証： 7日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
Installed / Running
製品ID：
146139
ウェーハサイズ：
12"/300mm
ヴィンテージ：
2008
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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ASML
TWINSCAN XT:1900Gi
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Steppers & Scanners
最終検証： 7日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
Installed / Running
製品ID：
146139
ウェーハサイズ：
12"/300mm
ヴィンテージ：
2008
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available