説明
説明なし構成
Laser system: KOMATSU Resolution: 0.18um Wafer loader type: type 3, NC Pre2 Reticle size: 6 inch Max expose field size: 26mm X 33mm Reticle library: Nikon Standard (9Slot) PPD: Yes Bar code reader: Yes Alignment system: LSA, FIA Inline: Left in-line Chamber type: S61OEMモデルの説明
Throughput: ≧ 110 wafers/hour (300 mm wafer) ≧ 120 wafers/hour (200 mm wafer)ドキュメント
ドキュメントなし
NIKON
NSR-SF200
検証済み
カテゴリ
Steppers & Scanners
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
53557
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
2003
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
同様のリスト
すべて表示
NIKON
NSR-SF200
カテゴリ
Steppers & Scanners
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
53557
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
2003
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
説明なし構成
Laser system: KOMATSU Resolution: 0.18um Wafer loader type: type 3, NC Pre2 Reticle size: 6 inch Max expose field size: 26mm X 33mm Reticle library: Nikon Standard (9Slot) PPD: Yes Bar code reader: Yes Alignment system: LSA, FIA Inline: Left in-line Chamber type: S61OEMモデルの説明
Throughput: ≧ 110 wafers/hour (300 mm wafer) ≧ 120 wafers/hour (200 mm wafer)ドキュメント
ドキュメントなし