説明
Nanometrics Nanospec 210 Film Thickness Measure構成
*. Process: Film thickness measurement. - silicon dioxide on silicon 400~ 30,000 A. - photo resist on silicon 500~ 40,000 A. - other thin films. *. Hardware configuration: - Optical microscope & objectives 5x,10x,40x. - Spectrophotometer Head. - Microcomputer & Monitor. - Photo intensity Display & Wavelength counter. - Microscope Stage. *. Wavelength : 390~800 nm TungstenLamp 12V /50W.OEMモデルの説明
提供なしドキュメント
ドキュメントなし
ONTO / NANOMETRICS / ACCENT / BIO-RAD
NANOSPEC 210
検証済み
カテゴリ
Thin Film / Film Thickness
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Refurbished
稼働ステータス:
不明
製品ID：
66020
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
不明
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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NANOSPEC 210
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Thin Film / Film Thickness
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不明
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Nanometrics Nanospec 210 Film Thickness Measure構成
*. Process: Film thickness measurement. - silicon dioxide on silicon 400~ 30,000 A. - photo resist on silicon 500~ 40,000 A. - other thin films. *. Hardware configuration: - Optical microscope & objectives 5x,10x,40x. - Spectrophotometer Head. - Microcomputer & Monitor. - Photo intensity Display & Wavelength counter. - Microscope Stage. *. Wavelength : 390~800 nm TungstenLamp 12V /50W.OEMモデルの説明
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