説明
説明なし構成
Process: Wet Chemistry Etching 1 Basins HCl acid (T ≤ 100°C) 1 QDR basins / “DIS Dryer” 2/3 I/O Carrier ports 3 Loadports IN + 3 Loadports OUT. Total 6. Automatic robot handlingOEMモデルの説明
High Throughput Batch Cleaning Systems Enable Flexible Line Configurations: WS-820C is for 200 mm wafers with carrier transfer processing.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Wet Benches - Auto
最終検証： 5日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
137931
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
2019
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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SCREEN / DNS / DAINIPPON SCREEN
WS-820C
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Wet Benches - Auto
最終検証： 5日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
137931
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
2019
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Available
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Process: Wet Chemistry Etching 1 Basins HCl acid (T ≤ 100°C) 1 QDR basins / “DIS Dryer” 2/3 I/O Carrier ports 3 Loadports IN + 3 Loadports OUT. Total 6. Automatic robot handlingOEMモデルの説明
High Throughput Batch Cleaning Systems Enable Flexible Line Configurations: WS-820C is for 200 mm wafers with carrier transfer processing.ドキュメント
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