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LAM RESEARCH / NOVELLUS / GASONICS GAMMA 2130
    説明
    RESIST CLEAN, CU
    構成
    構成なし
    OEMモデルの説明
    The GAMMA 2130 system is a front-end-of-line (FEOL) photoresist strip system for 300mm wafers. Our multi-station sequential processing architecture incorporates six stations within a single process chamber, enabling a 30 percent higher throughput rate when compared to that of the closest competitor.
    ドキュメント

    ドキュメントなし

    カテゴリ
    Ashers / Plasma Cleaner

    最終検証: 60日以上前

    主なアイテムの詳細

    状態:

    Used


    稼働ステータス:

    不明


    製品ID:

    75989


    ウェーハサイズ:

    不明


    ヴィンテージ:

    不明


    Have Additional Questions?
    Logistics Support
    Available
    Money Back Guarantee
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available

    LAM RESEARCH / NOVELLUS / GASONICS

    GAMMA 2130

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    検証済み
    カテゴリ
    Ashers / Plasma Cleaner
    最終検証: 60日以上前
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    主なアイテムの詳細

    状態:

    Used


    稼働ステータス:

    不明


    製品ID:

    75989


    ウェーハサイズ:

    不明


    ヴィンテージ:

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    RESIST CLEAN, CU
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    The GAMMA 2130 system is a front-end-of-line (FEOL) photoresist strip system for 300mm wafers. Our multi-station sequential processing architecture incorporates six stations within a single process chamber, enabling a 30 percent higher throughput rate when compared to that of the closest competitor.
    ドキュメント

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