説明
Metal CVD (Chemical Vapor Deposition)構成
構成なしOEMモデルの説明
Employing a unique, “selective” suppression mechanism, the Centura® iSprint™ ALD/CVD SSW process delivers the industry’s first bottom-up CVD W gap fill, free of voids and seams. It optimizes the volume of W, creating more robust features and helping to improve yield.ドキュメント
ドキュメントなし
APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA AP ISPRINT
検証済み
カテゴリ
CVD (Metalization)
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
26822
ウェーハサイズ：
12"/300mm
ヴィンテージ：
不明
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Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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CENTURA AP ISPRINT
検証済み
カテゴリ
CVD (Metalization)
最終検証： 30日以上前
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状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
26822
ウェーハサイズ：
12"/300mm
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Metal CVD (Chemical Vapor Deposition)構成
構成なしOEMモデルの説明
Employing a unique, “selective” suppression mechanism, the Centura® iSprint™ ALD/CVD SSW process delivers the industry’s first bottom-up CVD W gap fill, free of voids and seams. It optimizes the volume of W, creating more robust features and helping to improve yield.ドキュメント
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