説明
説明なし構成
構成なしOEMモデルの説明
Two new etch systems were launched in 1996 for HDP etching of metal and silicon films, using AMAT's DPS (Decoupled Plasma Source) technology. The DPS Metal Etch Centura and DPS Silicon Etch Centura are aimed at very advanced applications, primarily for deep submicron devices (0.25-micron).ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
131377
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
2006
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA METAL DPS
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
131377
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
2006
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
説明なし構成
構成なしOEMモデルの説明
Two new etch systems were launched in 1996 for HDP etching of metal and silicon films, using AMAT's DPS (Decoupled Plasma Source) technology. The DPS Metal Etch Centura and DPS Silicon Etch Centura are aimed at very advanced applications, primarily for deep submicron devices (0.25-micron).ドキュメント
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