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説明
EGA03 Chamber構成
構成なしOEMモデルの説明
For etching advanced conducting films, Applied launched DPS systems in fiscal 2001, the Metal Etch DPS™ II and Silicon Etch DPS™ II Centura systems, offering customers the technology, productivity and reliability required for 100nm and below processing.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
Deinstalled
製品ID：
117434
ウェーハサイズ：
12"/300mm
ヴィンテージ：
2003
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA METAL DPS II
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
Deinstalled
製品ID：
117434
ウェーハサイズ：
12"/300mm
ヴィンテージ：
2003
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Available
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Available
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Available
説明
EGA03 Chamber構成
構成なしOEMモデルの説明
For etching advanced conducting films, Applied launched DPS systems in fiscal 2001, the Metal Etch DPS™ II and Silicon Etch DPS™ II Centura systems, offering customers the technology, productivity and reliability required for 100nm and below processing.ドキュメント
ドキュメントなし