説明
EGA03 Chamber構成
構成なしOEMモデルの説明
For etching advanced conducting films, Applied launched DPS systems in fiscal 2001, the Metal Etch DPS™ II and Silicon Etch DPS™ II Centura systems, offering customers the technology, productivity and reliability required for 100nm and below processing.ドキュメント
ドキュメントなし
APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA METAL DPS II
検証済み
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 12日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
117434
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
2003
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
同様のリスト
すべて表示
APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA METAL DPS II
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 12日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
117434
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
2003
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
EGA03 Chamber構成
構成なしOEMモデルの説明
For etching advanced conducting films, Applied launched DPS systems in fiscal 2001, the Metal Etch DPS™ II and Silicon Etch DPS™ II Centura systems, offering customers the technology, productivity and reliability required for 100nm and below processing.ドキュメント
ドキュメントなし