説明
Chamber構成
構成なしOEMモデルの説明
For etching advanced conducting films, Applied launched DPS systems in fiscal 2001, the Metal Etch DPS™ II and Silicon Etch DPS™ II Centura systems, offering customers the technology, productivity and reliability required for 100nm and below processing.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 15日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
Deinstalled
製品ID：
117434
ウェーハサイズ：
12"/300mm
ヴィンテージ：
2003
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA METAL DPS II
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 15日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
Deinstalled
製品ID：
117434
ウェーハサイズ：
12"/300mm
ヴィンテージ：
2003
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
Chamber構成
構成なしOEMモデルの説明
For etching advanced conducting films, Applied launched DPS systems in fiscal 2001, the Metal Etch DPS™ II and Silicon Etch DPS™ II Centura systems, offering customers the technology, productivity and reliability required for 100nm and below processing.ドキュメント
ドキュメントなし