説明
Miissing parts: Process Kits , Pyrometer Upper Wafer Size Range Minimum 200 mm Maximum 200 mm Set Size 200 mm Number of Chambers 2 Other Information Conversion June 2007 SPU to EPI System Exterior Dimensions Width 79.528 in (202.0 cm) Depth 81.496 in (207.0 cm) Height 95.669 in (243.0 cm) Weight 5,291 lb (2,400 kg)構成
構成なしOEMモデルの説明
Applied Centura RP (reduced pressure) Epi systems.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Epitaxial deposition (EPI)
最終検証： 4日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
147415
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
1996
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA RP EPI
カテゴリ
Epitaxial deposition (EPI)
最終検証： 4日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
147415
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
1996
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
Miissing parts: Process Kits , Pyrometer Upper Wafer Size Range Minimum 200 mm Maximum 200 mm Set Size 200 mm Number of Chambers 2 Other Information Conversion June 2007 SPU to EPI System Exterior Dimensions Width 79.528 in (202.0 cm) Depth 81.496 in (207.0 cm) Height 95.669 in (243.0 cm) Weight 5,291 lb (2,400 kg)構成
構成なしOEMモデルの説明
Applied Centura RP (reduced pressure) Epi systems.ドキュメント
ドキュメントなし