説明
System hand: Left hand for 200mm, Right hand for 150mm available, Maint Console: Mini Maint CPU: 68040 Software Ver: 7.65 RP/ATM:RP Vacuum load lock: Ask RP Orientation: Bottom feed Gas Panel orientation: Top Feed TCS Mini Bubbler: 10L LPE Gas Detection: Gastec H2/HCL Temp Controller: Foxboro構成
構成なしOEMモデルの説明
The ASM Epsilon E2000 is a single-wafer epitaxy tool designed to accommodate various epitaxy applications. It covers a wide range of processes, including high-temperature silicon for wafer preparation and low-temperature selective or non-selective Silicon Germanium (SiGe) for creating transistor strain layers. The system is optimized for processing 150mm and 200mm wafers, offering flexibility and precision in epitaxial growth processes.ドキュメント
ドキュメントなし
検証済み
カテゴリ
Epitaxial deposition (EPI)
最終検証： 2日前
主なアイテムの詳細
状態：
Refurbished
稼働ステータス:
不明
製品ID：
139576
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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ASM
EPSILON E2000
カテゴリ
Epitaxial deposition (EPI)
最終検証： 2日前
主なアイテムの詳細
状態：
Refurbished
稼働ステータス:
不明
製品ID：
139576
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
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説明
System hand: Left hand for 200mm, Right hand for 150mm available, Maint Console: Mini Maint CPU: 68040 Software Ver: 7.65 RP/ATM:RP Vacuum load lock: Ask RP Orientation: Bottom feed Gas Panel orientation: Top Feed TCS Mini Bubbler: 10L LPE Gas Detection: Gastec H2/HCL Temp Controller: Foxboro構成
構成なしOEMモデルの説明
The ASM Epsilon E2000 is a single-wafer epitaxy tool designed to accommodate various epitaxy applications. It covers a wide range of processes, including high-temperature silicon for wafer preparation and low-temperature selective or non-selective Silicon Germanium (SiGe) for creating transistor strain layers. The system is optimized for processing 150mm and 200mm wafers, offering flexibility and precision in epitaxial growth processes.ドキュメント
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