説明
説明なし構成
構成なしOEMモデルの説明
The ASM Epsilon E2000 is a single-wafer epitaxy tool designed to accommodate various epitaxy applications. It covers a wide range of processes, including high-temperature silicon for wafer preparation and low-temperature selective or non-selective Silicon Germanium (SiGe) for creating transistor strain layers. The system is optimized for processing 150mm and 200mm wafers, offering flexibility and precision in epitaxial growth processes.ドキュメント
ドキュメントなし
ASM
EPSILON E2000
検証済み
カテゴリ
Epitaxial deposition (EPI)
最終検証： 30日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
112677
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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EPSILON E2000
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The ASM Epsilon E2000 is a single-wafer epitaxy tool designed to accommodate various epitaxy applications. It covers a wide range of processes, including high-temperature silicon for wafer preparation and low-temperature selective or non-selective Silicon Germanium (SiGe) for creating transistor strain layers. The system is optimized for processing 150mm and 200mm wafers, offering flexibility and precision in epitaxial growth processes.ドキュメント
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