![LAM RESEARCH / NOVELLUS / GASONICS GAMMA 2100](https://media-moov-co.s3.us-west-1.amazonaws.com/user_media/listingPhoto/45829/bad5f33c01854b0398f17b0b21ffd7bb/d8c94dc661274cb9a0492e61514bc470_3a08b028d9134410acfeb6642cdc5e9845005c_lw.jpeg)
説明
ASHER構成
ASHEROEMモデルの説明
The GAMMA 2100 200mm photoresist removal system uses a plasma source to strip photoresist. The GAMMA architecture features a multi-station sequential processing design with six strip stations, resulting in high wafer throughput with a minimal number of critical subsystems.ドキュメント
ドキュメントなし
LAM RESEARCH / NOVELLUS / GASONICS
GAMMA 2100
検証済み
カテゴリ
Etch/Asher
最終検証: 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態:
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID:
48869
ウェーハサイズ:
8"/200mm
ヴィンテージ:
2002
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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GAMMA 2100
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Etch/Asher
最終検証: 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態:
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID:
48869
ウェーハサイズ:
8"/200mm
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2002
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The GAMMA 2100 200mm photoresist removal system uses a plasma source to strip photoresist. The GAMMA architecture features a multi-station sequential processing design with six strip stations, resulting in high wafer throughput with a minimal number of critical subsystems.ドキュメント
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