説明
説明なし構成
構成なしOEMモデルの説明
Plasma-Therm’s LAPECVD™ (Large Area Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) uses a cassette-to-cassette configuration to allow for high-volume production in a wide range of applications. The LAPECVD™ platform can be used to deposit a variety of thin-film materials with its parallel-plate plasma deposition system. Hardware: -Cassette-to-Cassette Handling: - Multi-substrate batch processing -Dual cassettes -Platen heating up to 350°C -Upper electrode RF power at 13.56 MHz with optional MFD -Up to 8 gas channels with digital MFCs -Thermally managed reactor design—up to 175°C for internal walls and shower headドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
PECVD
最終検証： 6日前
主なアイテムの詳細
状態：
Parts Tool
稼働ステータス:
不明
製品ID：
146887
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
PLASMATHERM
LAPECVD
カテゴリ
PECVD
最終検証： 6日前
主なアイテムの詳細
状態：
Parts Tool
稼働ステータス:
不明
製品ID：
146887
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
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Available
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Available
Refurbishment Services
Available
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Plasma-Therm’s LAPECVD™ (Large Area Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) uses a cassette-to-cassette configuration to allow for high-volume production in a wide range of applications. The LAPECVD™ platform can be used to deposit a variety of thin-film materials with its parallel-plate plasma deposition system. Hardware: -Cassette-to-Cassette Handling: - Multi-substrate batch processing -Dual cassettes -Platen heating up to 350°C -Upper electrode RF power at 13.56 MHz with optional MFD -Up to 8 gas channels with digital MFCs -Thermally managed reactor design—up to 175°C for internal walls and shower headドキュメント
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