説明
説明なし構成
構成なしOEMモデルの説明
The system offers a resolution of 150 nm or better with a numerical aperture (NA) of 0.68. It utilizes a KrF excimer laser with a wavelength of 248 nm as the exposure light source. The reduction ratio is 1:4, and the exposure field measures 25 × 33 mm. The alignment accuracy, using the EGA method with |M| + 3σ, is equal to or less than 35 nm.ドキュメント
ドキュメントなし
NIKON
NSR-S204B
検証済み
カテゴリ
248nm DUV
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
82458
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
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Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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NIKON
NSR-S204B
検証済み
カテゴリ
248nm DUV
最終検証： 60日以上前
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状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
82458
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
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The system offers a resolution of 150 nm or better with a numerical aperture (NA) of 0.68. It utilizes a KrF excimer laser with a wavelength of 248 nm as the exposure light source. The reduction ratio is 1:4, and the exposure field measures 25 × 33 mm. The alignment accuracy, using the EGA method with |M| + 3σ, is equal to or less than 35 nm.ドキュメント
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