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APPLIED MATERIALS (AMAT) CENTURA METAL DPS
    説明
    ETCH
    構成
    構成なし
    OEMモデルの説明
    Two new etch systems were launched in 1996 for HDP etching of metal and silicon films, using AMAT's DPS (Decoupled Plasma Source) technology. The DPS Metal Etch Centura and DPS Silicon Etch Centura are aimed at very advanced applications, primarily for deep submicron devices (0.25-micron).
    ドキュメント

    ドキュメントなし

    APPLIED MATERIALS (AMAT)

    CENTURA METAL DPS

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    検証済み

    カテゴリ
    Dry / Plasma Etch

    最終検証: 16日前

    主なアイテムの詳細

    状態:

    Used


    稼働ステータス:

    不明


    製品ID:

    112355


    ウェーハサイズ:

    不明


    ヴィンテージ:

    2000


    Have Additional Questions?
    Logistics Support
    Available
    Money Back Guarantee
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
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    CENTURA METAL DPS

    Dry / Plasma Etch
    ヴィンテージ: 2007状態: 中古
    最終確認16日前

    APPLIED MATERIALS (AMAT)

    CENTURA METAL DPS

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    検証済み
    カテゴリ
    Dry / Plasma Etch
    最終検証: 16日前
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    主なアイテムの詳細

    状態:

    Used


    稼働ステータス:

    不明


    製品ID:

    112355


    ウェーハサイズ:

    不明


    ヴィンテージ:

    2000


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    Available
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    Available
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    Available
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    Available
    説明
    ETCH
    構成
    構成なし
    OEMモデルの説明
    Two new etch systems were launched in 1996 for HDP etching of metal and silicon films, using AMAT's DPS (Decoupled Plasma Source) technology. The DPS Metal Etch Centura and DPS Silicon Etch Centura are aimed at very advanced applications, primarily for deep submicron devices (0.25-micron).
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