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市場 > Dry / Plasma Etch > STS > MULTIPLEX ICP

MULTIPLEX ICP

カテゴリ
Dry / Plasma Etch
概要(Overview)

The STS MULTIPLEX ICP is an etch system. The STS MULTIPLEX ICP can be used with 2” wafer sizes. It has a silicon material plate and ASE polymer system processer.

現在の掲載品

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サービス

検査、保証、鑑定、ロジスティクス

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