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STS MULTIPLEX ICP
    説明
    説明なし
    構成
    STS, MULTIPLEX ICP-DRIE
    OEMモデルの説明
    The STS MULTIPLEX ICP is an etch system. The STS MULTIPLEX ICP can be used with 2” wafer sizes. It has a silicon material plate and ASE polymer system processer.
    ドキュメント

    ドキュメントなし

    STS

    MULTIPLEX ICP

    verified-listing-icon

    検証済み

    カテゴリ
    Dry / Plasma Etch

    最終検証: 60日以上前

    主なアイテムの詳細

    状態:

    Used


    稼働ステータス:

    Deinstalled


    製品ID:

    110312


    ウェーハサイズ:

    不明


    ヴィンテージ:

    不明


    Have Additional Questions?
    Logistics Support
    Available
    Money Back Guarantee
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
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    STS MULTIPLEX ICP

    STS

    MULTIPLEX ICP

    Dry / Plasma Etch
    ヴィンテージ: 0状態: 中古
    最終確認30日以上前

    STS

    MULTIPLEX ICP

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    検証済み
    カテゴリ
    Dry / Plasma Etch
    最終検証: 60日以上前
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    主なアイテムの詳細

    状態:

    Used


    稼働ステータス:

    Deinstalled


    製品ID:

    110312


    ウェーハサイズ:

    不明


    ヴィンテージ:

    不明


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    Available
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    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
    説明
    説明なし
    構成
    STS, MULTIPLEX ICP-DRIE
    OEMモデルの説明
    The STS MULTIPLEX ICP is an etch system. The STS MULTIPLEX ICP can be used with 2” wafer sizes. It has a silicon material plate and ASE polymer system processer.
    ドキュメント

    ドキュメントなし

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    Dry / Plasma Etchヴィンテージ: 0状態: 中古最終検証:30日以上前
    STS MULTIPLEX ICP

    STS

    MULTIPLEX ICP

    Dry / Plasma Etchヴィンテージ: 2001状態: 中古最終検証:60日以上前
    STS MULTIPLEX ICP

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    MULTIPLEX ICP

    Dry / Plasma Etchヴィンテージ: 0状態: 中古最終検証:60日以上前