説明
説明なし構成
Thickness MeasurementOEMモデルの説明
FOCUS FE VII system is designed for high volume, sub-micron device manufacturing requiring superior film thickness and index of refraction measurements in diffusion, etch, CMP and CVD applications.ドキュメント
ドキュメントなし
ONTO / RUDOLPH / AUGUST
FOCUS FE VII
検証済み
カテゴリ
Elipsometry
最終検証: 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態:
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID:
103869
ウェーハサイズ:
8"/200mm
ヴィンテージ:
2002
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
同様のリスト
すべて表示ONTO / RUDOLPH / AUGUST
FOCUS FE VII
カテゴリ
Elipsometry
最終検証: 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態:
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID:
103869
ウェーハサイズ:
8"/200mm
ヴィンテージ:
2002
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
説明なし構成
Thickness MeasurementOEMモデルの説明
FOCUS FE VII system is designed for high volume, sub-micron device manufacturing requiring superior film thickness and index of refraction measurements in diffusion, etch, CMP and CVD applications.ドキュメント
ドキュメントなし