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説明なし構成
Thickness MeasurementOEMモデルの説明
FOCUS FE VII system is designed for high volume, sub-micron device manufacturing requiring superior film thickness and index of refraction measurements in diffusion, etch, CMP and CVD applications.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Elipsometry
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
103869
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
2002
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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ONTO / RUDOLPH / AUGUST
FOCUS FE VII
カテゴリ
Elipsometry
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
103869
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
2002
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Available
Transaction Insured by Moov
Available
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FOCUS FE VII system is designed for high volume, sub-micron device manufacturing requiring superior film thickness and index of refraction measurements in diffusion, etch, CMP and CVD applications.ドキュメント
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