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ASM EPSILON E2000
    説明
    No warranty
    構成
    構成なし
    OEMモデルの説明
    The ASM Epsilon E2000 is a single-wafer epitaxy tool designed to accommodate various epitaxy applications. It covers a wide range of processes, including high-temperature silicon for wafer preparation and low-temperature selective or non-selective Silicon Germanium (SiGe) for creating transistor strain layers. The system is optimized for processing 150mm and 200mm wafers, offering flexibility and precision in epitaxial growth processes.
    ドキュメント

    ASM

    EPSILON E2000

    verified-listing-icon

    検証済み

    カテゴリ
    Epitaxial deposition (EPI)

    最終検証: 30日以上前

    主なアイテムの詳細

    状態:

    Used


    稼働ステータス:

    Installed / Running


    製品ID:

    113487


    ウェーハサイズ:

    不明


    ヴィンテージ:

    不明


    Have Additional Questions?
    Logistics Support
    Available
    Money Back Guarantee
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
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    ASM EPSILON E2000

    ASM

    EPSILON E2000

    Epitaxial deposition (EPI)
    ヴィンテージ: 0状態: 中古
    最終確認16日前

    ASM

    EPSILON E2000

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    検証済み
    カテゴリ
    Epitaxial deposition (EPI)
    最終検証: 30日以上前
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    主なアイテムの詳細

    状態:

    Used


    稼働ステータス:

    Installed / Running


    製品ID:

    113487


    ウェーハサイズ:

    不明


    ヴィンテージ:

    不明


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    Available
    説明
    No warranty
    構成
    構成なし
    OEMモデルの説明
    The ASM Epsilon E2000 is a single-wafer epitaxy tool designed to accommodate various epitaxy applications. It covers a wide range of processes, including high-temperature silicon for wafer preparation and low-temperature selective or non-selective Silicon Germanium (SiGe) for creating transistor strain layers. The system is optimized for processing 150mm and 200mm wafers, offering flexibility and precision in epitaxial growth processes.
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    Epitaxial deposition (EPI)ヴィンテージ: 0状態: 改修済み最終検証:60日以上前
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    EPSILON E2000

    Epitaxial deposition (EPI)ヴィンテージ: 0状態: 改修済み最終検証:60日以上前