説明
説明なし構成
構成なしOEMモデルの説明
The MRC 603 is a sputter system designed to deposit thin film metals by DC source. It can hold four 6-inch wafers on a pallet for the process. The tool can be used to deposit aluminum (Al), titanium (Ti), and indium-tin-oxide (ITO) for single or multi-stack films like an Al/Tiドキュメント
ドキュメントなし
MRC / KDF
603
検証済み
カテゴリ
PVD / Sputtering
最終検証: 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態:
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID:
111351
ウェーハサイズ:
不明
ヴィンテージ:
不明
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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603
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The MRC 603 is a sputter system designed to deposit thin film metals by DC source. It can hold four 6-inch wafers on a pallet for the process. The tool can be used to deposit aluminum (Al), titanium (Ti), and indium-tin-oxide (ITO) for single or multi-stack films like an Al/Tiドキュメント
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