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MRC 603
    説明
    説明なし
    構成
    構成なし
    OEMモデルの説明
    The MRC 603 is a sputter system designed to deposit thin film metals by DC source. It can hold four 6-inch wafers on a pallet for the process. The tool can be used to deposit aluminum (Al), titanium (Ti), and indium-tin-oxide (ITO) for single or multi-stack films like an Al/Ti
    ドキュメント

    ドキュメントなし

    MRC

    603

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    検証済み

    カテゴリ
    PVD / Sputtering

    最終検証： 60日以上前

    主なアイテムの詳細
    状態：

    Used

    稼働ステータス:

    不明

    製品ID：

    111351

    ウェーハサイズ：

    不明

    ヴィンテージ：

    不明

    Have Additional Questions?
    Logistics Support
    Available
    Money Back Guarantee
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
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    MRC 603

    MRC

    603

    PVD / Sputtering
    ヴィンテージ： 0状態： 中古
    最終確認60日以上前
    MRC 603

    MRC

    603

    PVD / Sputtering
    ヴィンテージ： 0状態： 中古
    最終確認60日以上前

    MRC

    603

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    検証済み
    カテゴリ
    PVD / Sputtering
    最終検証： 60日以上前
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    主なアイテムの詳細
    状態：

    Used

    稼働ステータス:

    不明

    製品ID：

    111351

    ウェーハサイズ：

    不明

    ヴィンテージ：

    不明

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    Available
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    Available
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    構成
    構成なし
    OEMモデルの説明
    The MRC 603 is a sputter system designed to deposit thin film metals by DC source. It can hold four 6-inch wafers on a pallet for the process. The tool can be used to deposit aluminum (Al), titanium (Ti), and indium-tin-oxide (ITO) for single or multi-stack films like an Al/Ti
    ドキュメント

    ドキュメントなし

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    PVD / Sputteringヴィンテージ： 0状態： 中古最終検証：60日以上前
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    PVD / Sputteringヴィンテージ： 0状態： 中古最終検証：60日以上前